FO研磨粉規格,類似富士美

FO研磨粉規格,類似富士美

FO研磨粉
{%標題%}

物理性質和化學成分%

 

物品

 

尺寸

比重

(克/立方公分)

化學(%)
氧化鋁二氧化矽Fe2O3二氧化鈦ZrO2
 

FO

#800-#1200≥3.90≥45.0≤20.0≤0.5≤2.0≤33.0
1500-3000≥3.90≥40.5≤20.0≤0.7≤2.0≤33.0

粒徑分佈 (PSD)

尺寸D0D3D50D94
#800≤32.0≤27.011.3±0.9≥6.5
#1000≤27.0≤23.09.4±0.8≥5.0
#1200≤23.0≤20.07.1±0.7≥4.0
#1500≤19.0≤17.05.5±0.5≥3.0
#2000≤15.0≤14.04.5±0.4≥2.0
#3000≤12.0≤11.03.6±0.4≥1.5

主要應用

半導體晶圓的研磨和拋光

–各種光學玻璃的表面處理

光學晶體透鏡、棱鏡、反射鏡、濾光片等的研磨和拋光。

壓電材料的表面精加工

包裝

20公斤紙袋+托盤

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